真空镀膜技术初现于20世纪30年代,四五十年代开始出现工业应用，浙江磁控溅射无纺布镀铜膜,工业化大规模生产开始于20世纪80年代,在电子、宇航、包装、装潢、烫金印刷等工业中取得普遍的应用.真空镀膜是指在真空环境下,将某种金属或金属化合物以气相的形式沉积到材料表面(通常是非金属材料)，浙江磁控溅射无纺布镀铜膜,属于物理的气相沉积工艺.因为镀层常为金属薄膜,故也称真空金属化.广义的真空镀膜还包括在金属或非金属材料表面真空蒸镀聚合物等非金属功能性薄膜，浙江磁控溅射无纺布镀铜膜.在所有被镀材料中,以塑料更为常见。镀膜光线透穿率可达95%。浙江磁控溅射无纺布镀铜膜
真空镀铝膜可以进一步提高真空镀铝膜的氧气阻隔性能，同时可以保持表面张力大于50 dyne/cm 6到12个月。产品主要应用于对氧气阻隔性要求高的食品、药品的包装上，如坚果、薯片等。为提高真空镀铝膜的装饰性能，在基材薄膜镀铝前或镀铝后进行各种颜色的涂布，或模压后再进行镀铝，使得真空镀铝膜具有多彩的颜色或具有镭射效果。此类产品可分为三种：包装用膜、装饰用膜、标示用膜。主要应用于礼品、礼盒的装饰或防伪包装用途，如食品、药品、玩具等的外包装以及烟、酒等的防伪包装。天津bopp镀铝膜材料真空镀铝膜成为一种性能优良、经济美观的新型复合薄膜。
真空镀铝膜的镀铝层的附着牢度超过胶带的粘结力，则分别不出镀铝层附着牢度的差别。现在常用的定量检测方法是在一定的温度、压力和时间下，用eaa薄膜（厚度20－50um，aa含量一般在9%左右）与真空镀铝膜的镀铝层进行热封，将热封后的样品裁成15mm宽，在拉力试验机上进行剥离试验，观察并记录剥离力的大小以及镀铝层被剥离的面积。真空镀铝膜具有优良的耐折性和良好的韧性，很少出现小孔和裂口，无揉曲龟裂现象，对气体、水蒸气、气味、光线等的阻隔性提高。
真空镀铝膜是一个集工作环境、加工设备、人员技术、素材靶材和工艺控制于一体的综合制造过程。镀铝性能取决于塑件和镀膜层的质量，被人戏称为“富人的游戏”，说明镀膜质量要求相当高。镀膜质量的关键是底漆层质量。虽有无底涂镀膜，但其模具质量要求和成本高，存在镀铝反射亮度不足和塑件缺陷等问题，易导致镀铝产品报废率居高不下。一般而言，无底涂的报废率在10%左右，有底涂在20%左右，甚至会更高。为解决这一困惑，国内有厂家经过10多年的努力，采用了炉内喷涂底漆并固化使镀件生成高亮的表面。真空镀铝膜节省了能源和材料，降低了成本。
真空镀铝膜特点：（1）减少了用铝量，节省了能源和材料，降低了成本，复合用铝箔厚度多为7～gpm，而镀铝薄膜的铝层厚度约为0.05n左右，其耗铝量约为铝箔的1/140～1/180，且生产速度可高达450m/min。（2）具有优良的耐折性和良好的韧性，很少出现小孔和裂口，无揉曲龟裂现象，因此对气体、水蒸汽、气味、光线等的阻隔性提高。（3）具有比较好的金属光泽，光反射率可达97%；且可以通过涂料处理形成彩色膜，其装潢效果是铝箔所不及的。（4）可采用屏蔽式进行部分镀铝，以获得任意图案或透明窗口，能看到内装物。真空镀铝膜具有优良的耐折性和良好的韧性。浙江磁控溅射无纺布镀铜膜
真空镀铝膜主要为热固化底漆和紫外光(uv)固化底漆，适用性很好。浙江磁控溅射无纺布镀铜膜
真空镀铝膜的二溅射方法虽然简单，但放电不稳定，而且沉积速率低。为了提高溅射速率以及改善膜层质量，人们在二溅射装置的基础上附加热阴，制作出三溅射装置。三溅射中，等离子体的密度可以通过改变电子发射电流和加速电压来控制。离子对靶材的轰击能量可以用靶电压加以控制，从而解决了二溅射中靶电压、靶电流和气压之间相互制约的矛盾。三溅射的缺点在于放电不稳定，等离子体密度不均匀引起的膜厚不均匀。为此，在三溅射的基础上又加了一个辅助阳，这就形成了四溅射。浙江磁控溅射无纺布镀铜膜
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