化学气相沉淀cvd法：最（zui）具潜力的大规模生产方法cvd法被认为最有希望制备出高质量、大面积的石墨烯，是产业化生产石墨烯薄膜最(zui)具潜力的方法。化学气相沉淀cvd法具体过程是：将碳氢化合物甲（jia）烷、乙醇等通入到高温加热的金属基底cu、ni表面，反应持续一定时间后进行冷却，冷却过程中在基底表面便会形成数层或单层石墨烯，此过程中包含碳原子在基底上溶解及扩散生长两部分。该方法与金属催化外延生长法类似，其优点是可以在更低的温度下进行，从而可以降低制备过程中能量的消耗量，并且石墨烯与基底可以通过化学腐蚀金属方法容易地分离，有利于后续对石墨烯进行加工处理。
石墨烯的几种主流制作方法注：前面已有多篇文章介绍过石墨烯及其应用领域，工作原理等，这里不再复述，本篇主要讲石墨烯的制作方法。
针对原料和用途的不同，相应的有几种不同方法。通常来讲有气相沉积法，氧化还原法，插层法.
气象沉积法主要是含碳气体（甲（jia）烷、依稀），在一定的温度和压力条件下，碳原子在生长基上附着，形成单层碳结构物质并逐渐生长。
优点：所得石墨烯结构好，尺寸不受原料的限制。缺点：制备过程复杂，生产效率低。
氧化还原法是利用氧化剂将石墨逐层氧化，利用超声等方式将已氧化的层剥离。之后，利用还原剂将氧化石墨层还原，即得到石墨烯。
优点：成本低廉，生产效率较高。
缺点：制得石墨烯的尺寸由原料决定，所用氧化剂和还原剂有污染环境的可能。
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