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无尘洁净室(clean
room)，亦称为无尘室，洁净室或无尘车间。它是污染控制的基础。没有无尘洁净室，污染敏感零件不可能批量生产。在fed-std-2里面，无尘洁净室被定义为具备空气过滤、分配、优化、构造材料和装置的房间，其中特定的规则的操作程序以控制空气悬浮微粒浓度，从而达到适当的微粒洁净度级别。
洁净室的发展与现代工业、尖端技术密切在一起。由于精密机械工业(如陀螺仪、微型轴承等加工)、半导体工业(如大规模集成电路生产)等对环境的要求，促进了洁净室技术的发展。
工业洁净技术和生物洁净技术必将随着科学技术的发展和工业产品的日新月异而地发展，成为现代工业生产和科学实验活动不可缺少的重要技术标志之一。
洁净室是指将空间范围内之空气中的微粒子、有害空气、细菌等之污染物排除，并将室内之温度、洁净度、室内压力、气流速度与气流分布、噪音振动及照明、静电控制在某一需求范围内，而所给予特别设计之房间。亦即是不论外在之空气条件如何变化，其室内均能俱有维持原先所设定要求之洁净度、温湿度及压力等性能之特性。
洁净室主要之作用在于控制产品(如硅芯片等)所接触之大气的洁净度日及温湿度，使产品能在一个良好之环境空间中生产、制造，此空间我们称之为洁净室。按照国际惯例，无尘净化级别主要是根据每立方米空气中粒子直径大于划分标准的粒子数量来规定。也就是说所谓无尘并非没有一点灰尘，而是控制在一个非常微量的单位上。当然这个标准中符合灰尘标准的颗粒相对于我们常见的灰尘已经是小的微乎其微，但是对于光学构造而言，哪怕是一点点的灰尘都会产生非常大的负面影响，所以在光学构造产品的生产上，无尘是必然的要求。 每立方米将小于0.3微米粒径的微尘数量控制在3500个以下，就达到了国际无尘标准的a级。目前应用在芯片级生产加工的无尘标准对于灰尘的要求高于a级，这样的高标主要被应用在一些等级较高芯片生产上。微尘数量被严格控制在每立方米1000个以内，这也就是业内俗称的1k级别。
洁净室用途主要有以下三个：
空气洁净室：已经建造完成并可以投入使用的洁净室(设施)。它具备所有有关的服务和功能。但是，在设施内没有操作人员操作的设备。 静态洁净室：各种功能完备、设定安装妥当，可以按照设定使用或正在使用的洁净室(设施)，但是设施内没有操作人员。
动态洁净室：处于正常使用的洁净室，服务功能完善，有设备和人员;如果需要，可从事正常的工作。
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